森派克开发SiC·TaC·B4C·PYC 化学气相沉积技术
森派克在2011年韩国政府技术开发支援项目中，执行了CVD-SiC 设备的国产化开发任务，在此过程中研发了CVD设备的基本技术。此后开发出半导体及太阳光工艺配件用CVD-SiC设备、2000℃以上超高温工艺配件用TaC CVD设备、航空航天与国防武器材料用HfC/B4C/BN CVD设备、手机和生物材料用PYC CVD设备、Carbon/SiC复合材料用CVD设备等，供应到国内外市场。
森派克在CVD设备领域的竞争力在于涵盖从原材料供应到废气处理的整个CVD工艺的一站式(Turn-key Plant)供应能力，根据产品形状或装载方式选择水平或垂直气流的流动控制能力，便于加热室维护的Retort Muffle组装结构，石墨化和碳纯化设备开发过程中积累的超高温操作能力，以及同时提供设备硬件和基本工艺配方的工艺开发能力。
森派克在公司内建造了一台可以加热到 2400℃的 Pilot CVD 设备，当客户确认CVD设备订单时，可进行设备硬件设计，提前通过Pilot 设备进行工艺测试。这样就提高了设备的可靠性，为客户提供了设备初始运行必不可少的基本工艺配方。
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2022년 1월 10일 15:47
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2022년 1월 6일 14:38